国物联网规阴影区域表示用于创建凹度曲线的区域图3-9分类模型精确度图图3-10（a~d）由高斯拟合铁电体计算的凹面积图。
Ta0.1Tm0.1Ir0.8O2-δ纳米催化剂晶域之间的晶界应变主要扭转调整了Ir–O键长，模已优化了活性位点Ir对氧中间体的吸附能并降低了OER的能垒，模已同时使催化剂保持了优秀的催化剂稳定性。由于析氧反应（OER）是涉及多种氧中间体的缓慢四电子转移过程，亿元产业草该反应具有较高的催化过电位，电解水的效率通常受到OER的显着限制。
此外，根化过渡金属Ta和稀土元素Tm共掺杂IrO2-δ引起的掺杂效应也调整了活性位点的电子结构，优化了活性位点对催化中间体的结合能。目前为止，国物联网规IrOx是唯一已知的在PEM中大规模工业化应用的OER电催化剂。迄今已发表论文240余篇,获专利8项,其中发表Science4篇、模已NatureMaterials3篇、NatureNanotechnology2篇、NatureCommunications 9篇、J.Am.Chem.Soc.22篇、ACSEnergyLetters5篇等。
然而，亿元产业草目前的IrOx催化剂仍然存在质量活性低的问题，难以满足商业电流密度下高性能和长期稳定性的要求。根化（c）纳米催化剂在η=266mV时的质量活性显示了应变和掺杂对增强OER活性的影响。
国物联网规（d）ΔGOH和ΔGOOH的相关性。
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